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光學顯微鏡與掃描電鏡的區別在哪里?

 更新時間:2021-09-17 點擊量:5490
  光學顯微鏡與掃描電鏡的區別
 
  不同的成像原理:光學顯微鏡利用幾何光學成像原理獲取圖像,電子顯微鏡利用高能電子束轟擊樣品表面,激發樣品表面的各種物理信號,然后利用不同的信號探測器接收物理信號并轉換成圖像信息。
 
  成像原理不同:光學顯微鏡利用幾何光學成像原理進行成像,電子顯微鏡利用高能量電子轟擊地球,激發出地面的各種物理信號,再利用不同的信號轉化成圖像接收信號。
 
  分辨率不同:由于光的干涉和衍射,光學顯微鏡的分辨率被限制在0.2-0.5um之間。由于以電子束為光源,電子顯微鏡的分辨率可達1-3nm,因此光學顯微鏡觀察屬于微米級分析,電子顯微鏡微觀結構觀察屬于納米級分析。
 
  電子顯微鏡光譜吸收光譜作為光源,其分辨率可達到 1-3nm 之間,因此光學顯微鏡光譜儀光譜儀采用不同的分辨率:光學顯微鏡光譜儀光學的干涉與影響作用,可能會影響光學顯微鏡。組織的觀察屬于微米級分析,電子顯微鏡組織屬于納米級。
 
  深度不同:一般光學顯微鏡的深度在2-3um之間,對樣品表面光滑度要求高,制樣過程相對復雜。SEM深度可達數毫米,因此對樣品表面的光滑程度沒有任何要求,制樣相對簡單,甚至有些樣品幾乎不需要制樣。盡管立體顯微鏡具有很大的深度,但其分辨率卻很低。
 
  深景不同:一般光學顯微鏡的景深在2-3毫米之間,因此對樣品的高度要求非常高,所以制樣過程相對比較復雜。掃描電鏡的景深則可長達幾個毫米,因此對樣品而言地面的精確幾何沒有任何要求,樣品制作比較簡單,*不需要制樣。
 
  我們的光學電子顯微鏡是飛納掃描電鏡制造商荷蘭 Phenom World 公司與熒光顯微鏡制造商荷蘭 Delmic 于 2015 年聯合推出的*款將熒光顯微鏡和掃描電鏡高度集成在一起的設備。2015 年,德飛熒光掃描電鏡一體機 Delphi正式進入中國市場。
 
  光學電子顯微鏡是世界上采用 Automatic Overlap (自動交疊) 技術的設備,簡單的說,。借助該設備,用戶可把光學顯微鏡所包含的豐富信息和掃描電鏡所*的超高分辨率*結合在一起,觀察研究樣品納米尺度范圍的動態過程,精確定位細胞和有機體中所發生的特定事件。通過在熒光圖像中疊加掃描電鏡圖像,實現在一張圖像中同時得到樣品精細結構和功能物質的信息。
 

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